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レーザ描画

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レーザ直接描画装置

レーザ直接描画装置 MEMS製作では、半導体プロセスを応用した作成方法が多く行われています。 一般的な半導体プロセスでは、Si 等の半導体基板上に塗布したレジストに対し、電子ビーム描画装置等で 作製したマスクパターンをス ...

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