パレット 描画装置 palette
パレット 描画装置
マスクレス露光装置
概要／仕様
高速・広範囲・低価格のDMD式マスクレス露光装置
| 最小露光線幅 | 3μm（10×対物レンズ） |
|---|---|
| 露光範囲 | 1mm×0.6mm（10×対物レンズ） |
| 露光時間 | 約1秒 |
特長／用途
任意の画像データやCADデータをレジストに一括露光
つなぎ合わせによって広範囲の露光が可能（自動ステージオプション）
デバイス試作、マスク作成に最適なマスクレス露光
ラボオンチップ、マイクロマシン、マイクロ流路、デバイス電極などの作製
高速・広範囲・低価格のDMD式マスクレス露光装置
| 最小露光線幅 | 3μm（10×対物レンズ） |
|---|---|
| 露光範囲 | 1mm×0.6mm（10×対物レンズ） |
| 露光時間 | 約1秒 |
任意の画像データやCADデータをレジストに一括露光
つなぎ合わせによって広範囲の露光が可能（自動ステージオプション）
デバイス試作、マスク作成に最適なマスクレス露光
ラボオンチップ、マイクロマシン、マイクロ流路、デバイス電極などの作製