レーザとレーザ応用システムの総合メーカー:ネオアーク株式会社English

レーザ直接描画装置

レーザ直接描画装置

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■製品特長
・最小1μmでのパターンニングが可能
・マスクを使用せずに任意のパターンをレジストに露光が可能
・小型な装置であり、大気中での露光が可能な為、少ない設置場所の要求条件
・分解能10nmのステージにより高精度な位置決めを実現

■主なアプリケーション
・磁性薄膜等の任意形状のパターンニング
・センサ、半導体デバイスの試作
・MEMSデバイスの試作
・オプトエレクトロニクス、LEDの試作
・マイクロ流体デバイスの試作
・マスク作成
・細胞等の分別用流路作成
・光導波路の作成

超高精度XYステージ

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■製品特長
・超音波モータと光学式リニアスケールとの組み合わせた、分解能10nmの高精度ステージ
・動き出しの不感帯が微小な為、真円に近いステージ動作が可能
・ご要望に応じたカスタマイズオーダーに対応可能

■主なアプリケーション
・顕微鏡との組み合わせによる電動ステージ
・加工装置への導入
・計測機器のサンプルステージ

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