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Concept
コンセプト

フォトリソを、もっと身近に!

 かつて「産業のコメ」と呼ばれた半導体。その半導体プロセスの根幹を支えた技術が「フォトリソグラフィ」です。 時代とともにフォトリソグラフィが求められる分野は拡がり、今やMEMS、物性研究、バイオテクノロジーなど、多種多様な分野で利用される代表的な微細加工技術となりました。
 一方で数ナノメートルにまで到達した半導体用フォトリソグラフィ装置はもちろんのこと、サブミクロンのパターンを露光する既存の装置でさえ、 大型な装置サイズ、数千万~数億円単位の装置価格、環境や付帯設備、ユーザに求められる高い熟練度など、導入のハードルは非常に高いのが実情です。 「微細加工に興味はある、しかし近くにインフラはない」という研究者・技術者にとって、このハードルの高さは開発テーマを諦めるに十分です。

  ”マスクレス露光装置PALET” は設置場所を選ばない装置サイズ、マスクレス露光装置の常識を破る価格設定、思いついたパターンをその場で形にできるシンプルな操作性を実現しました。 ユーザ目線でハードルを取り除いた製品仕様は、トライ&エラーが必要不可欠な研究・試作用途に最適です。
 私たちは、この ”マスクレス露光装置PALET” を通じて、フォトリソグラフィをより身近なものにしていきたい、様々な研究を加速する手助けをしていきたい、そう願っています。


Fields
利用分野

デバイス開発
立体形状
MEMS
材料物性評価
バイオテクノロジー
ライフサイエンス
流体解析
学生実験


Features
製品特長


Photo-lithography samples
露光例

厚さ200ミクロン、ピラーサイズ最小20ミクロンの高アスペクト露光を行いました。専用設計の2倍レンズを利用することで高アスペクトな露光も可能です。作製には東京工業大学 小俣・石田研究室の石田准教授にご協力いただきました。
高アスペクトピラー

厚さ300ミクロン、流路幅100ミクロンの濃度勾配流路パターンを作製しました。[参考]Fukuda,J., Kakegawa,T., Seibutsu-kogaku 92:13-19,2014
厚膜流路パターン

SU-8を多重露光し、高さの異なる2段階培養容器を作製しました。
2段階露光
作製した培養容器を利用してES細胞を培養しました。実験には東京大学の榛葉助教にご協力いただきました。
ES細胞培養例

冶具を利用することで露光範囲(□25mm)を上回る大きさの露光を行うことも可能です。
マイクロ流路作製例

PALETの機能を利用し、面倒な露光条件出しが一度で完了します。
露光条件出し
多重露光を利用した磁気ジャイロセンサのパターンです。モスクワ電気工科大学のMazurkin博士(当時)にご協力いただきました。
磁気センササンプル

10ミクロンの櫛葉電極パターンです。
櫛葉電極パターン

電気二重層トランジスタ(EDLT)の実験風景です。最新の学術研究にももちろん利用可能です。実験は東北大学の藤原准教授に協力いただきました
EDLT実験風景
仕様以下となる1.6ミクロンのライン&スペースです。部分的には1ミクロンの線幅も狙えます。
ライン&スペース

手動ステージモデルを使い、つなぎ合わせ露光を行いました。時間はかかりますが電動ステージモデルと遜色ない露光結果が得られます。
手動モデルの露光パターン

電気泳動模擬パターン

Specifications
仕様


基本仕様

品名
手動ステージモデル
電動ステージモデル
大型ステージモデル
型名
DDB-701-MS
DDB-701-DL
DDB-701-DL4
ステージ
手動XYZθステージ
電動XYZθステージ
構成 (共通)
装置本体・制御用PC・ソフトウェア
構成 (モデル)
ステージドライバ
ステージドライバ・防振テーブル
光源
365nm(typ.) LED
露光領域
25mm × 25mm
100mm × 100mm
ワークサイズ
最大□60mm、 厚み3mm
最大Φ150mm、 厚み10mm
ユーティリティ
AC100V、消費電力 1.5kW以下
対応ファイルフォーマット
画像データ(JPEG / PNG / BITMAP) 、パワーポイントデータ(XPS)、CADデータ(DXF)
本体外寸、質量
300mm(W) × 450mm(D) × 450mm(H)、 約30kg
500mm(W) × 600mm(D) × 650mm(H)、 約100kg


露光仕様

対物レンズ
10倍
2倍
最小露光線幅
3μm
15μm
ワンショットあたりの露光エリア
約 1 mm × 0.6 mm
約 5 mm × 3 mm
ワンショットあたりの露光時間 (※1)
約1秒
約15秒
※1 弊社標準フォトレジストでの参考値となります。

Option
オプション


各種カスタマイズや特注仕様も承ります。詳しくはハードウェアをご覧ください。


特注露光ユニット



2倍対物レンズ



スタートキット
(ご相談ください)



環境構築サポート



Price
価格

手動ステージモデル\5,000,000 (参考価格)
電動ステージモデル\9,000,000 (参考価格)
大型ステージモデルお問い合わせください

Contact
問い合わせ




こちらの展示会では実機展示を行う予定です。ぜひご来場下さい。


2018/12/12(水) - 14(金)
セミコンジャパン((株)PMTブース内)
2019/1/16(水) - 18(金)
インターネプコンジャパン(東京都中小企業振興公社ブース内)
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