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一覧性の高いユーザインターフェイス

 以前よりご評価いただいていた直観的な操作性はそのままに、ユーザインターフェイスの見直しを行いました。さらにスムーズな操作が可能となっています。 また、「オートフォーカス」、「ネガポジ反転」、「観察画像の明るさ調整」といった、利用頻度の高い機能をトップ画面に配置し、露光作業中のクリック動作を削減しています。

迷いのない操作性

 サブミクロンを求める高精度な露光を行うためには、装置の高性能化だけではなくユーザの熟練が不可欠です。一方で、工学分野以外の研究者や、これから研究を始める学生にとって、装置の習熟は大きなハードルになりがちです。
 PALETはフォトリソグラフィに不慣れな人でも露光作業に迷わない、直感的な操作性を実現しています。写真を印刷するように、任意のパターンを露光することができます。もちろんPALETでも、数ミクロン程度の細いパターンを露光することは可能です。PALETには露光作業をアシストする各種機能が盛り込まれていますので、安心してご利用ください。


重ね合わせ(アライメント)

デバイス作製に必須の重ね合わせ露光をセミオートで行うことができます(電動ステージモデル)。基板表面と露光パターンの両方を目視できるため、マスクアライナ等で経験のある方はもちろん、初めての方でも操作に迷うことはありません。またデジタルデバイスの特長を活かし、露光パターンの反転や非表示をすることで、より正確な位置合わせが可能です。


通常表示

透かし表示

非表示

反転表示

リピートモード(条件出し)

露光結果はレジストの種類だけではなく、レジストの状態(保存状況、開封日、膜厚)、基板の種類、外部環境(温度、湿度)、装置の状態(経年劣化)など、非常に多くの要因に影響されます。PALETではマトリクス状に露光パワーや焦点位置を変更する機能を持ち、面倒な露光条件出しをアシストします。

パターン生成機能

基本図形(円/四角形)を配列して、簡単なパターンをソフト上で生成する機能です。次のような用途にご利用できます。

  • マイクロ流路上のピラー形成
  • 材料の表面改質
  • 回折格子パターン形成  など

キャンバスモード

露光エリア(25mm角)を1つの描画キャンバスに見立て、露光パターンを自由に配置できるのがキャンバスモードです。配置したパターンは個々に条件を設定できます。

豊富な対応フォーマット

画像データ(JPEG,PNG,BITMAP)、パワーポイント作図データ(XPS)、CADデータ(DXF)を読み込むことが可能です。また、画像データはソフトウェア上で拡大、縮小、ポジ/ネガ反転を行う事ができますので、一々編集ソフトを使用する必要がありません。 DXFファイルは正確な寸法を指定したいときに便利なフォーマットです。。任意レイヤの読込が可能で多重露光などに活用できます。
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