3次元形状レーザ露光装置 LASER EXPOSURE EQUIPMENT
コンセプト
Concept
3次元形状へのフォトリソグラフィを実現！
フォトリソグラフィは幅広い分野で活用されていますが、一般的に平面ワーク
に対して行われています。しかし、デバイスの小型化、高性能化、デザイン性
向上への対応は著しく、今までの平面に対するフォトリソグラフィでは不十分
な状況が増えてきており、3次元形状へのフォトリソグラフィの実現が期待され
てきました。
本装置は5軸ステージを制御することで様々な3次元形状のワークに対して任意
のパターンをマスクレスで露光することが可能となり、次世代の製品を見据え
た研究開発に活用することができます。
利用分野
Fields
-
IoT/IoH
(Internet of Human)
デバイス -
マイクロ
エレクトロニクス -
自動運転等の
センシング技術 -
バイオテクノロジー
ライフサイエンス
製品特長
Features
HARDWARE
3次元形状へのフォトリソグラフィを可能にする5軸ステージ
従来のXYZ直動ステージでは3次元形状ワークの露光点に対して入射角が変化してしまい露光品質に差が生じてしまいます。
直動3軸+回転2軸の5軸ステージを採用することによって、3次元形状ワーク上の任意の点に対してレーザ入射角を一定に保ちつつ自由に
照射することが可能となりました。
最大5軸の同時補間動作＋フィードバック
制御を行うことにより、等速度運動が実現され、
高精度のパターニングが可能となります。
2方式のオートフォーカスを採用したアシスト機能
ワークやデリケートなレジストにダメージを与えることない非接触でワークの取り付け誤差の補正やパターニング中の焦点補正を行います。
ワーク取り付け誤差補正
観察用カメラによるコントラスト方式オートフォーカスを多点数実施することで、ワークの取り付け角度の誤差を算出して補正を行います。
パターニング中の焦点補正
赤色レーザによる三角測量方式オートフォーカスを用いてパターニング中に発生するフォーカス誤差を算出してリアルタイム補正を行います。
特注ステージ例
円柱外周へのパターニングに特化した円柱露光タイプを用意しました。
ワークの芯だし機構を搭載し、回転ステージを対向に配置することで長いワークで起きやすいタレ等のワークの歪みを引っ張り抑制することが可能となります。
露光例
Photo-lithography samples
R40mm 曲面ワーク 15μm Line & Space
R15mm 球面ワーク ロゴマーク 20μmハッチング露光
Φ5mm 円柱ワーク 100μm螺旋露光
仕様
Specifications
機械仕様
| ステージ構成 | 5軸ステージ XY軸： 直進 300mmストローク Z軸： 直進 200mmストローク Α軸： 回転 360° Β軸： 回転 90° |
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|---|---|---|---|
| 最大ワークサイズ | 1辺が100mm以下の立方体 | ||
| 装置構成 | 装置本体・制御パソコン・専用ソフトウェア | ||
| 装置寸法 | W1000 × H1800 × D900(mm) | ||
光学仕様
| 露光光源 | 375nm 半導体レーザ | ||
|---|---|---|---|
| 対物レンズ | NUV 専用設計2倍 / NUV 10倍 | ||
| 最小露光線幅 | 10μm 以下 ※使用対物レンズおよびレジスト種類およびレジスト厚によって変わります。 |
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機能
| オートフォーカス | 露光時：赤色レーザによる三角測量方式 アライメント時：カメラ画像によるコントラスト方式 |
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|---|---|---|---|
| 最小露光線幅 | ワーク取り付け誤差補正(ワーク位置・角度アライメント)機能 観察機構 |
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●標準的な仕様となります。カスタマイズ等はご相談ください。
●ワークの大きさなどによりカタログ値と異なる場合があります。
●上記内容は2021年12月現在のものです。